島津 EPMA-8050G 電子探針顯微分析儀
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產(chǎn)品介紹
電子探針顯微分析儀(Electron Probe Microanalyzer)
“The Grand EPMA” 誕生
搭載發(fā)射電子光學系統(tǒng)
從SEM觀察條件到1μA量級，在各種束流條件下都擁有空間分辨率的發(fā)射電子光學系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀。
當之無愧的“The Grand EPMA” ，高水準的EPMA誕生！
超高分辨率面分析
對碳膜上Sn球放大3萬倍進行面分析。即使是SE圖像（左側(cè)）上直徑只有50nm左右的Sn顆粒，在X射線圖像（右側(cè)）上也是清晰可見。
技術(shù)實現(xiàn)
■ 空間分辨率
EPMA可達到的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下N.1的二次電子分辨率。
（加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）
■ 二次電子圖像高分辨率3nm
碳噴鍍金顆粒的觀察實例。實現(xiàn)高分辨率
3nm（@30kV）。
■ 大束流超高靈敏度分析
實現(xiàn)3.0μA（加速電壓30kV）的大束流。
全束流范圍無需更換物鏡光闌。
■ 多可同時搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無人可及的52.5°X射線取出角。
4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。
多可同時搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。
■ 全部分析操作簡單易懂
全部操作僅靠一個鼠標就可進行的可操作性。
追求「易懂」的人性化用戶界面。
搭載導航模式，自動指引直至生成報告。超高靈敏度面分析
使用1μA束流對不銹鋼進行5000倍的面分析。捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相（左側(cè)），同時也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前（右側(cè)）。
實現(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析的技術(shù)
1 高亮度肖特基發(fā)射體
場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析不可缺少的穩(wěn)定大電流。2 EPMA專用電子光學系統(tǒng)
電子光學系統(tǒng)，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè)，交叉點不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成 交叉點的（日本專利：第4595778號）。簡單的透鏡結(jié)構(gòu)，既能獲得大束流，同時全部電流條件下設(shè)定合適的打開角度，將電子束壓縮到細。當然是不需要更換物鏡光闌的。3 超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室保持著超高真空，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。4 高靈敏度X射線譜儀
多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時，又可減小樣品對X射線的吸收，實現(xiàn)高靈敏度的分析。
